光刻胶

光刻胶系列

适用于先进制程的高性能光刻胶材料，包括 g/i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶等系列产品

核心优势

高分辨率图案化能力
优异的附着力和均匀性
低缺陷密度
良好的工艺窗口

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技术参数

粘度	20-50 cP
固含量	10-20%
过滤精度	0.2μm
金属离子	<10ppb
颗粒度	<100 个/mL
储存条件	0-5°C 避光保存

应用场景

集成电路制造

MEMS 器件

先进封装

光电器件

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